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河南熱處理設備有限公司

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三溫區(qū)cvd實驗室設備

詳細摘要：三溫區(qū)PECVD實驗室設備由單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質子流量計、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成PECVD設備是借助于光放電等方法產生等離子體
產品型號：S-1700PC所在地：更新時間：2022-02-12 在線留言
雙溫區(qū)CVD實驗室設備

詳細摘要：雙溫區(qū)PECVD實驗室設備由滑動式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成,溫度可以達到1400度,極限真空可以達到10-3Pa,供氣系統(tǒng)是流量調節(jié)可以是質子流量...
產品型號：S-1400PC所在地：更新時間：2022-02-12 在線留言
石墨烯管式爐(石墨烯CVD爐)

詳細摘要：管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成,溫度可以達到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等,極限真空可以達到10-3Pa
產品型號：S-1200PC所在地：更新時間：2022-02-12 在線留言
CVD浮子混氣系統(tǒng)

詳細摘要： CVD浮子混氣系統(tǒng)適用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備,生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用
產品型號：S-1700S-CVD所在地：更新時間：2022-02-12 在線留言
混合氣體化學氣相沉積CVD系統(tǒng)

詳細摘要：混合氣體化學氣相沉積CVD系統(tǒng)由高溫管式爐,真空壓強控制系統(tǒng),多通道高精度數(shù)字質量流量控制系統(tǒng),過壓保護及冷凝等部分組成,可實現(xiàn)真空達0.1mbar混合氣體化學...
產品型號：S-1200S-CVD所在地：更新時間：2022-02-12 在線留言
滑式真空爐CVD系統(tǒng)

詳細摘要：滑式真空爐CVD系統(tǒng)由滑動式開啟式真空管式爐,混氣系統(tǒng),真空及壓力系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結溫度可達1200℃,通過滑動爐體來實現(xiàn)快速的升降溫
產品型號：S-1200HZ-CVD所在地：更新時間：2022-02-12 在線留言